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Écrit par Sébastien Decaux, publié le 8 avril (dernière actualisation le 8 avril à 20h39)

넷제로 2050 sk하이닉스, 스크러버 온실가스 처리.

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본 발명은 반도체장치 제조공정에 사용되는 유독성, 가연성 및 부식성 등 그 독성이 강한 각종 공정가스를 배출함에 있어서, 이들 공정가스에 의한 안전사고의 위험을 방지하기 위하여 공정가스를 안전한 상태로 정화시키도록.